在幾十年發(fā)展歷程中，集成電路的飛速發(fā)展推動社會現(xiàn)代化程度跨越式提升，深刻影響了現(xiàn)代人類的思維方式和生活習慣。電子計算機技術的發(fā)展加速人類社會進入信息化時代，集成電路科學一定程度上成了人類科技大發(fā)展的基礎。
隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、自動駕駛等新興技術的產(chǎn)業(yè)化加速，芯片需求量隨之激增。半導體質量控制貫穿集成電路制造全過程，保證芯片性能與生產(chǎn)良率。隨著先進制程和復雜工藝的使用，工藝環(huán)節(jié)不斷增加，行業(yè)發(fā)展對工藝控制水平提出了更高的要求，制造過程中量測設備與檢測設備的需求量倍增。
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從細微之基 做崇高之業(yè)
微崇于2021年3月成立，是由領先的海歸半導體設備技術團隊發(fā)起，與中國資深工程師和科學家團隊共同建立一個，立足于非線性光學晶圓檢測技術的世界先進半導體公司。微崇致力于研發(fā)最先進的半導體檢測技術，生產(chǎn)先進的半導體檢測設備。
行業(yè)介紹
Industry
Introduction
微崇產(chǎn)品
Aspiring Product
ASPIPER 3000
非線性光學晶圓缺陷檢測系統(tǒng)
ASPIRER 3000非線性光學晶圓缺陷檢測系統(tǒng)可以提供晶圓級別的缺陷檢測，對界面及膜層質量進行綜合測試分析，提升各類制程的良率。獨有的非線性光學技術配合自主研發(fā)的檢測系統(tǒng)可提供超高的檢測靈敏度，并對有、無圖案晶圓均有良好的適用性。ASPIRER 3000機臺可滿足客戶在研發(fā)和量產(chǎn)中對晶圓質量的快速、無損、精準檢測需求。
- 產(chǎn)品特點
- 非接觸、無損傷
- 快速檢測
- 在線檢測
- 軟件操作便捷
- Wafer Map等多樣化表征手段
- 主要應用
- 各類成膜工藝質量的監(jiān)控
- 各類生產(chǎn)工藝機臺穩(wěn)定性的監(jiān)控
- 刻蝕等工藝對晶圓損傷的檢測與監(jiān)控
- 離子注入及退火工藝的質量監(jiān)控
- 清洗等工藝質量的監(jiān)控
BRAVERY 3000
光調(diào)制反射晶圓檢測系統(tǒng)
BRAVERY 3000 是具有巨大市場價值的新型晶圓缺陷檢測設備，其采用光調(diào)制反射技術，可實現(xiàn)對晶圓的非接觸、無損傷、在線、快速、內(nèi)部檢測，精準診斷與定位晶圓缺陷，該產(chǎn)品對有/無圖案晶圓均適用，可填補當前國內(nèi)市場離子注入工藝非接觸檢測設備的國產(chǎn)化空白，實現(xiàn)晶圓注入質量特性檢測量產(chǎn)化。
- 產(chǎn)品特點
- 非接觸非破壞性
- 有/無圖案晶圓皆適用
- 可作為在線檢測設備
- 無需測前與測后處理，超快檢測速度
- 軟件檢測操作簡單
- 可自動生成wafer map等可視化數(shù)據(jù)
- 主要應用
- 各種離子注入及退火工藝的質量監(jiān)控
- 刻蝕等工藝對晶圓損傷的質量監(jiān)控
- 產(chǎn)品優(yōu)勢
- 自研產(chǎn)品，可定制化
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